유도결합플라스마 발광광도법 [ Inductively Coupled Plasma; ICP 분석법]
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작성일 23-02-02 02:43
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방전시에 생성되는 전자는 고주파 전류가 유도코일을 흐를 때 발생하는 자기장에 의하여 가속되어 주위의 알곤가스와 충돌하여 이온화되고 새로운 전자와 알곤이온을 생성한다. 플라스마의 온도는 최고 15,000 oK까지 이르며 보통시료는 6,000～8,000 oK의 고온에 도입되므로 거의 완전한 원자화가 일어나 分析(분석)에 장애가 되는 많은 간섭을 배제하면서 고감도의 측정(測定) 이 가능하게 된다된다.
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에어로졸 상태로 분무된 시료는 가장 안쪽의 관을 통하여 플라스마( 도너츠모양 )의 중심부에 도입되는데 이때 시료는 도너츠 내부의 좁은 부위에 한정되므로 광학적으로 발광되는 부위가 좁아져 강한 발광을 관측할 수 있으며 화학적으로 불활성인 위치에서 원자화가 이루어지게 된다된다.
설명
다. 알곤플라스마는 토치 위에 불꽃형태( 직경 12～15 ㎜, 높이 약 30 ㎜ )로 생성되지만 온도, 전자 밀도가 가장 높은 영역은 중심축보다 약간 바깥쪽( 2～4 ㎜ )에 위치한다. 이와 같은 ICP의 구조는 중심에 저온, 저전자 밀도의 영역이 형성되어 도너츠 형태로 되는데 이 도너츠 모양의 구조가 ICP의 특징이다.
시료를 고주파유도코일에 의하여 형성된 알곤 플라스마에 도입하여 6,000~8,000oK 에서 원자가 바닥상태로 이동할 때 방출하는 발광선 및 발광강도를 측정하여 원소의 정성 및 정량분석에 이용하는 방법이다.
유도결합플라스마 발광광도법 [ Inductively Coupled Plasma; ICP 분석법]
원리 및 적용범위 시료를 고주파유도코일에 의하여 형성된 알곤 플라스마에 도입하여 6,000~8,000oK 에서 원자가 바닥상태로 이동할 때 방출하는 발광선 및 발광강도를 측정하여 원소의 정성 및 정량분석에 이용하는 방법이다. 원리 및 적용범위
유도결합플라스마 발광광도법, Inductively Coupled Plasma,ICP 분석법
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ICP는 알곤가스를 플라스마 가스로 사용하여 수정발진식 고주파발생기로 부터 발생된 주파수 27.13 ㎒ 영역에서 유도코일에 의하여 플라스마를 발생시킨다. ICP의 토치( Torch )는 3중으로 된 석영관이 이용되며 제일 안쪽으로는 시료가 운반가스( 알곤, 0.4～2 L/min )와 함께 흐르며, 가운데 관으로는 보조가스( 알곤, 플라스마가스, 0.5～2 L/min ), 제일 바깥쪽 관에는 냉각가스( 알곤, 10～20 L/min )가 도입되는데 토치의 상단부분에는 물을 순환시켜 냉각시키는 유도코일이 감겨 있다아 이 유도코일을 통하여 고주파를 가해주면 고주파가 알곤가스 매체 중에 유도되어 플라스마를 형성하게 되는데 이때 테슬라코일에 의하여 방전하면 알곤가스의 일부가 전리되어 플라스마가 점등한다. 이와같이 생성된 전자는 다시 알곤가스를 전리하여 전자의 증식작용을 하므로서 전자밀도가 대단히 큰 플라스마 상태를 유지하게 된다된다.
